Четырехфтористый углерод (CF4)

Краткое описание:

Тетрафторид углерода, также известный как тетрафторметан, представляет собой бесцветный газ при нормальной температуре и давлении, нерастворимый в воде.Газ CF4 в настоящее время является наиболее широко используемым газом для плазменного травления в микроэлектронной промышленности.Он также используется в качестве лазерного газа, криогенного хладагента, растворителя, смазки, изоляционного материала и охлаждающей жидкости для трубок инфракрасных детекторов.


Информация о продукте

Теги продукта

Технические параметры

Спецификация 99,999%
Кислород+Аргон ≤1ppm
Азот ≤4 частей на миллион
Влага (H2O) ≤3 частей на миллион
HF ≤0,1 ч/млн
CO ≤0,1 ч/млн
СО2 ≤1 ч/млн
SF6 ≤1 ч/млн
Галокарбины ≤1 ч/млн
Всего примесей ≤10 частей на миллион

Четырехфтористый углерод представляет собой галогенированный углеводород с химической формулой CF4.Его можно рассматривать как галогенированный углеводород, галогенированный метан, перфторуглерод или неорганическое соединение.Четырехфтористый углерод — бесцветный газ без запаха, нерастворимый в воде, растворимый в бензоле и хлороформе.Стабильный при нормальной температуре и давлении, избегайте сильных окислителей, легковоспламеняющихся или горючих материалов.Негорючий газ, внутреннее давление контейнера будет увеличиваться при воздействии высокой температуры, и существует опасность растрескивания и взрыва.Он химически стабилен и негорюч.Только жидкий аммиачно-металлический реагент натрия может работать при комнатной температуре.Четырехфтористый углерод — газ, вызывающий парниковый эффект.Он очень стабилен, может оставаться в атмосфере в течение длительного времени и является очень сильным парниковым газом.Тетрафторуглерод используется в процессе плазменного травления различных интегральных схем.Он также используется в качестве лазерного газа и используется в низкотемпературных хладагентах, растворителях, смазочных материалах, изоляционных материалах и охлаждающих жидкостях для инфракрасных детекторов.Это наиболее часто используемый газ для плазменного травления в микроэлектронной промышленности.Это смесь газа высокой чистоты тетрафторметана и газа высокой чистоты тетрафторметана и кислорода высокой чистоты.Его можно широко использовать в кремнии, диоксиде кремния, нитриде кремния и фосфосиликатном стекле.Травление тонкопленочных материалов, таких как вольфрам и вольфрам, также широко используется при очистке поверхностей электронных устройств, производстве солнечных элементов, лазерных технологиях, низкотемпературном охлаждении, контроле утечек и моющих средств при производстве печатных плат.Используется в качестве низкотемпературного хладагента и технологии плазменного сухого травления для интегральных схем.Меры предосторожности при хранении: Хранить в прохладном вентилируемом складе негорючего газа.Хранить вдали от огня и источников тепла.Температура хранения не должна превышать 30°C.Хранить его следует отдельно от легко (горючих) горючих веществ и окислителей и избегать смешанного хранения.Зона хранения должна быть оборудована оборудованием для экстренной обработки утечек.

Приложение:

① Хладагент:

Тетрафторметан иногда используется в качестве низкотемпературного хладагента.

  фдргр Грег

② Травление:

Он используется в микропроизводстве электроники отдельно или в сочетании с кислородом в качестве плазменного травителя для кремния, диоксида кремния и нитрида кремния.

дсгре ргг

Обычный пакет:

Продукт Тетрафторид углеродаCF4
Размер посылки 40-литровый цилиндр 50-литровый цилиндр  
Вес нетто наполнения/цил. 30 кг 38 кг  
Кол-во загружено в 20-футовом контейнере 250 цилиндров 250 цилиндров
Общий вес нетто 7,5 тонн 9,5 тонн
Собственный вес цилиндра 50 кг 55 кг
Клапан СГА 580

Преимущество:

①Высокая чистота, новейшее оборудование;

②Производитель сертификата ISO;

③Быстрая доставка;

④Система онлайн-анализа для контроля качества на каждом этапе;

⑤Высокие требования и тщательный процесс обработки баллона перед наполнением;


  • Предыдущий:
  • Следующий:

  • Напишите свое сообщение здесь и отправьте его нам